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机译:基于无掩模DMD灰度光刻的多重图案化工艺优化方法
Ma, X.; Kato, Y.; Kempen, F.; Hirai, Y.; Tsuchiya, T.; Keulen, F.; Tabata, O.;
机译:使用新开发的数字镜面设备光刻设备在深蚀刻或倾斜表面上进行无掩模光刻精细图案化以及灰度光刻
机译:基于DMD灰度光刻的3D微结构数值优化的实验研究
机译:无掩模投影光刻技术,可快速灵活地生成灰度蛋白质图案
机译:基于无掩模DMD的灰度光刻处理优化方法的多种图案化
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:LD识别精度的多尺度加工强弱方法模拟
机译:在对象上形成灰度图案的无掩膜光刻系统和在对象之间形成灰度图案的方法
机译:在对象和无符号光刻系统上产生灰度的方法
机译:光刻技术的条带化方法,能够获得较高的光刻技术和图案精度
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